Gasfiltration und -reinigung in der Display-Fertigung

Filtration

Die Abscheidung feiner Partikel aus Bulkgasströmen und Gasströmen an der Anwendungsstelle für die Herstellung von Flüssigkristall-Displays kritisch. Die Effizienz von Membran-, Metall- oder Keramikfiltern in der Gasversorgung ist eine grundlegende andere als in der Flüssigkeitsversorgung. Die Gasfilter von Pall haben in der Regel eine Abscheiderate von 3 nm. Das entspricht der kleinsten Partikelgröße, die zuverlässig mithilfe eines Kondensationskernzählers (CNC) gemessen werden kann.

Filtrationsmedien und Konfigurationen

Die Filter sind mit Filtermedien aus PTFE, Edelstahl, Nickel oder Keramik erhältlich, um den Kompatibilitätsanforderungen von inerten oder korrosiven Gasen unter Umgebungstemperatur oder hohen Temperaturen gerecht zu werden.

Desweiteren steht eine Palette an kleinen bis großen Komplettfiltern (Einweg-Metallgehäuse mit einer Auswahl an Filterelementen) bis hin zu Einweg Filterkerzen zur Verfügung, die den richtigen Filter für die jeweilige Flussrate bietet.

 

Display - ÜbersichtDisplay – Anwendungen
Display – Chemikalienfiltration
Display – Fotolithographie-Filtration
Display – Flüssigkristallfiltration
Display – Gasfiltration und -reinigung
Display – Reinstwasserfiltration

Diffusoren

Gasdiffusoren eignen sich ideal zur Belüftung in Schleusen- oder anderen Vakuumkammern bei denen ein hoher Gasdurchsatz durch eine kleine Öffnung und in kurzen Zeiträumen strömt. Pall´s ChamberKleen Diffusoren verbinden einen Edelstahlfilter und eine einzigartige Membrane die einen 360° Fluss ermöglicht. Diese Kombination ermöglicht einen hohen und gleichmäßigen Gasdurchsatz mit geringer Partikelverwirbelung in der Kammer. Dementsprechend können kurze Belüftungszeiten bei geringer Partikelverwirbelung erzielt und somit ein hoher Wafer-Durchsatz und eine hohe Effizienz des Equipments erreicht werden.

Reinigung

Bei zunehmender Pixeldichte können bisher unbedenkliche Verunreinigungen jetzt zu Defekten führen und sowohl Qualität als auch Produktausbeute negativ beeinflussen. Seit kurzem sind molekulare Verunreinigungen (auch gasförmige oder flüchtige Verunreinigungen genannt) immer häufiger die Ursache für Defekte bei PECVD- und Sputter-Verfahren. Zu den molekularen Verunreinigungen zählen Feuchtigkeitsanteile, Sauerstoff, Kohlendioxid, Kohlenmonoxid und Kohlenwasserstoffe. Für das Entfernen dieser Verunreinigungen reicht die Partikelfiltration nicht aus, sondern es ist ein reaktives Material erforderlich. Das Entfernen von molekularen Verunreinigungen aus Gasströmen wird als Gasreinigung bezeichnet.

AresKleen™-Technologie

Das AresKleen-Material ist ein vollständig anorganisches Medium, das bei Verunreinigung eine sehr gute Reaktionsfähigkeit zeigt. Die Technologie ermöglicht es Verunreinigungen im Spurenbereich bis < 1 ppb für Intertgase, Edelgase, nicht reaktive Gase, Hybride, perfluorierte Kohlenwasserstoffe und Korrosivgase zu entfernen.

Merkmale und Vorteile unserer Reiniger:

  • Betrieb bei Raumtemperatur erfordert keine zusätzliche Wärmequelle.
  • Ein kleines, gleichförmiges Substrat, das sich hervorragend für das Packen des Reaktionsbettes eignet  und die Installation der Reiniger in vertikaler oder horizontaler Ausrichtung zulässt.
  • Integrierte Partikelfilter ermöglichen den Einsatz der Gasreiniger als Ersatz zu bestehenden Inline Partikelfiltern, ohne dass das Equipment modifiziert werden muss.
  • Gasspezifische Medien zur Reinigung verschiedener Gase.

Gasreinigungsprodukte

Pall Gasreiniger sind für einen großen Bereich an Volumenströmen erhältlich.


Produkte für die Gasfiltration in der Display-Fertigung

Filtergehäuse

Komplettfilter der Gaskleen® 6101-Serie
Komplettfilter der Gaskleen® 6101-SerieDer Komplettfilter ist für die ≥ 3-Nanometer-Filtration (0,003 μm) von Prozessgasen ausgelegt.



Komplettfilter der Gaskleen® IV-Serie
Komplettfilter der Gaskleen® IV-SerieDieser Komplettfilter ist speziell auf die  3-Nanometer-Filtration (0,003 µm) von Halbleiter-Reinstprozessgasen ausgelegt.


Gaskleen® Sealed-in-Line-Komplettfilter
Gaskleen® Sealed In-Line-KomplettfilterDieser Komplettfilter ist speziell auf die Filtration von ≥ 3-Nanometer-Filtration (0,003 μm) von Prozessen mit Flussraten von bis zu 200 scfm ausgelegt.
   

Komplettfilter der Gaskleen® V-Serie
Komplettfilter der Gaskleen® V-SerieDies stellt die neueste Generation von Pall-Gasfiltern dar, die für die Filtration von Halbleiter-Reinstprozessgasen entwickelt wurde.

    
Komplettfilter der Maxi Gaskleen®8202/9202-Serie
Komplettfilter der Maxi Gaskleen® 8202/9202-SerieDieser Komplettfilter ist speziell auf die ≥ 3-Nanometer-Filtration (0,003 μm) bei Anwendungen mit hohen Flussraten ausgelegt.

    
Micro Kleen-Change®-Komplettfilter (Gasfiltration)
Micro Kleen-Change®-Komplettfilter (Gasfiltration)Dieser Komplettfilter ist zur hochreinen Endstellenfiltration in Gasanwendungen bei niedrigem Druck ausgelegt.

    
Mini Gaskleen® Hi-Flow-Komplettfilter
Mini Gaskleen® Hi-Flow-KomplettfilterDieser Komplettfilter ist zur Endstellenfiltration von Reinstgasen ausgelegt.

    
Mini Kleen-Change®-Komplettfilter (Gasfiltration)
Mini Kleen-Change®-Komplettfilter (Gasfiltration)Dieser Komplettfilter ist zur hochreinen Endstellenfiltration in Gasanwendungen bei niedrigem Druck ausgelegt.

    
Komplettfilter der Mini Ultramet-L® 1100-Serie
Komplettfilter der Mini Ultramet-L® 1100-SerieDieser Komplettfilter ist für die ≥ 3-Nanometer-Filtration (0,003 μm) von Halbleitergasen ausgelegt und eignet sich ideal für Endstellenanwendungen.

    
Komplettfilter der PFA Gaskleen® 6101-Serie
Komplettfilter der PFA Gaskleen® 6101-SerieDieser Komplettfilter ist speziell für die ≥ 3-Nanometer-Filtration (0,003 μm) von Sauerstoff und Spezialgasen ausgelegt.


Komplettfilter der Ultramet-L® 4000-Serie
Komplettfilter der Ultramet-L® 4000-SerieDieser Komplettfilter ist ein 316L Volledelstahlfilter für die ≥ 3-Nanometer-Filtration (0,003μm) von Halbleiter-Prozessgasen.

    
Komplettfilter der Ultramet-L® 4400-Serie
Komplettfilter der Ultramet-L® 4400-SerieDieser Komplettfilter wird für alle Anwendungen empfohlen, bei denen mit 316L-Edelstahl oder Nickel kompatible Prozessgase zum Einsatz kommen.


PG Series Gaskleen®-Gasreiniger und Bypass-Aufbau
PG Series Gaskleen® Gasreiniger und InstallationseinheitDieser Komplettfilter eignet sich für Prozessflussraten von bis zu 1.000 slpm.



Filter

Emflon®-Filter (Gasfiltration)
Emflon®-Filter (Gasfiltration)Dieses Filterelement ist auf die ≥ 3-Nanometer-Filtration (0,003 μm) von Bulk-Gasanwendungen in der Halbleiterindustrie ausgelegt.


Emflon® PF-Filter (Gasfiltration)
Emflon® PF-Filter (Gasfiltration)Hierbei handelt es sich um einen gefalteten Voll-Fluorpolymer-Filter für die 3-Nanometer-Filtration (0,003 µm) von aggressiven Bulk-Prozessgasen.


Gasket-Sert-Filter
Gasket-Sert™-FilterDieser Filter dient zum Schutz von wichtigen Komponenten der Gas Panele von Halbleiter-Gasverteilersystemen.


Gasket-Sert PSP-Filter
Gasket-Sert™ PSP-FilterDieser Filter dient zum Schutz von wichtigen Komponenten der Gas Panele von Halbleiter-Gasverteilersystemen.

    
High-Flow Emflon®-Filterelement
High-Flow Emflon®-FilterelementDieser Filter ist für große Stickstoffmengen und reine Trockenluft ausgelegt, die in der LCD- und Halbleiterindustrie benötigt werden und bei denen die Flussraten über 2.000 Nm3/h/1.000 scfm liegen.


Small Flow Emflon®-Filter (Gasfiltration)
Small Flow Emflon®-Filter (Gasfiltration)Dieses Filterelement ist für die ≥ 3-Nanometer-Filtration (0,003 μm) von inerten Gasanwendungen in der Fertigung von Halbleitergeräten ausgelegt.

    
Ultipleat® PK CDA-Filter
Ultipleat® PK CDA-FilterDieser Filter wurde für Anwendungen mit sauberer Trockenluft und Stickstoff in der LCD- und Halbleiterindustrie entwickelt.  Dieser Filter ist für Flussraten von bis zu 10.000 slpm (353 scfm) geeignet.

 

Produkte für die Gasreinigung in der Display-Fertigung

Reiniger

Gaskleen® 1 1/8-Zoll-Gasreiniger mit C-Dichtung
Gaskleen® ST-GasreinigerDieser Reiniger entfernt Verunreinigungen aus vielen Prozessgasen.



Gaskleen® II-Gasreiniger
Gaskleen® II-GasreinigerDieser Reiniger entfernt Verunreinigungen aus den meisten Prozessgasen.



Gaskleen® SP-Gasreiniger
Gaskleen® SP-GasreinigerDieser Reiniger schützt in Sauerstoffanalysegeräten verwendete Zirkonoxid-Sensoren (ZrO2).


    
Gaskleen® ST Reiniger
Gaskleen® ST-GasreinigerDieser Reiniger entfernt Verunreinigungen aus vielen Prozessgasen.


    
Maxi Gaskleen®-Gasreiniger
Maxi Gaskleen®-GasreinigerDieser Reiniger entfernt Verunreinigungen aus den meisten Prozessgasen.


    
Mini Gaskleen®-Gasreiniger
Dieser Reiniger entfernt Verunreinigungen aus vielen Prozessgasen.