Gasfiltration und -reinigung in der Halbleiterfertigung

Mit abnehmender Strukturbreite steigt der Bedarf an hochreinen Gasen kontinuierlich an.  Mit der Produktlinie von Pall für Gasfiltration und -reinigung können Anwender die strengsten Reinheitsanforderungen erfüllen.

Gasfiltration

Wir bieten die umfassendste Palette an Filtrationsprodukten mit Filtermedien aus PTFE, Edelstahl, Nickel und Keramik für die Entfernung von Partikel mit einer Größe von > 3 nm.  Die Materialien unserer Edelstahlgehäuse erfüllen bzw. übertreffen die Branchenstandards für VAR-Material und ermöglichen hochpolierte, kratzerfreie Oberflächen.  Verschiedene Produktgrößen decken Flussraten für Endstellen am Tool,  dem Bulk-Liefersystem und allen Punkten dazwischen ab. Erfahren Sie mehr darüber. . .

Gasreinigung

Reiniger entfernen molekulare Verunreinigungen, wie z. B. Feuchte, Sauerstoff, Kohlenstoffdioxid, Kohlenstoffmonoxid, Metallcarbonyle und Kohlenwasserstoffe außer Methan.  Unsere einzigartigen Materialien können diese Verunreinigung in vielen verschiedenen Gasen, wie inerten und brennbaren Gasen, Fluorkohlenwassertoffe, oxygenierte, chlorierte, korrosive Gase u.v.m. bis auf  Spurenanteile reduzieren.  Alle Gasreiniger beinhalten integrierte Partikelfilter. Erfahren Sie mehr darüber. . .
 

Übersicht für den Halbleitermarkt
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Anwendungsliteratur zu Halbleitern