Anwendungsliteratur zur Gasfiltration für die Halbleiterfertigung

Titel Wichtige

Teilprozesse
Prozessverbesserungen Wirtschaftliche Vorteile Zu folgenden Produkten
Anwendungsbericht
Maintaining Ultra High Pure Gas Delivery Systems
by Installing Pall Gas Filter Assemblies
 (PDF)
k. A.
  • Konstante Reinheitsgrade
  • Eliminiert jede singifikante Verunreinigung von Wasser und Sauerstoff verursacht  durch Ausgasen in das Gasversorgungssystem
  • Schnelle Abpumpzeiten der Vakuumkammer und
    somit kürzere Prozesszyklusdauer
  • Geringere Betriebskosten
Preventing Particles on Wafers by Installing
the Pall ChamberKleen Diffuser
 (PDF)
k. A.
  • Kürzerer Spülzyklus
  • Höherer Tool- und Prozess-Durchsatz
  • Reduzierte Turbulenz des Gasstroms
  • Weniger Partikeldefekte auf dem Wafer
  • Geringere Betriebskosten

Removing Particulate Contamination in Ultra High Pure
Gas Delivery Systems by Installing Pall Gas Filters
 (PDF)

  • Direkte Rückhaltung
  • Rückhaltung durch Trägheit
  • Rückhaltung durch Diffusion
  • Abscheidung von kleinen und großen Partikeln
  • Geringere Betriebskosten
Technische und veröffentlichte Artikel

Leistungsmerkmale von Pall Ultramet-L® Filtern

     
Recommended Change-Out Schedule for
Electronic Grade Gas Filters
  • Plasmaätzen von Polysilizium
  • Reinigen im Diffusionsofen
  • Oxidationsprozess
k. A. k. A.
Reducing system Footprint and operational Costs
through Careful Component Selection
 (PDF)
  • Plasmaätzprozess
  • Höhere Flussraten bei vergleichsweise geringem Platzbedarf
  • Geringerer Platzbedarf
  • Schädliche Verunreinigung entfernen
  • Anzahl der notwendigen Kalibrierungen senken
  • Entfernung von Metallcarbonylkomplexen
  • Entfernung schädlicher Feuchtigkeitsverunreinigungen
  • Längere Lebensdauer
  • Weniger Wechsel
  • Macht zusätzliche Wärmequellen überflüssig
  • Senkung der Kapital- und Wartungskosten
  • Längere Betriebszeit
  • Höhere Ausbeute
  • Zusätzliche Kosten sowie Ausgaben für Energie und Wartung werden vermieden
Selection of 316L Stainless Steel for High Purity
Semiconductor Gas Filter Assemblies
k. A.
  • Beseitigt partikülare Kontamination
k. A.
  • Alle Gaskleen- und Ultramet-L Filter-Komplettfilter
Use of Fluropolymer and All-Stainless Steel Filters
in Ultraclean Gas Distribution Systems
k. A.
  • Beseitigt partikülare Kontamination
  • minimales Ausgasen
k. A.
Use of Nickel and 316L Stainless Steel Filter
Assemblies in High Purity Corrosive Gas Distribution Systems
k. A.
  • Verbessert die Korrosionsbeständigkeit in UHP Gassystemen
k. A.