Anwendungsliteratur zur Gasfiltration für die Halbleiterfertigung

Titel Wichtige

Teilprozesse
Prozess-
verbesserungen
Geschäfts-
vorteile
Zu folgenden
Produkten
Anwendungs-
bericht
Maintaining Ultra High Pure Gas Delivery Systems
by Installing Pall Gas Filter Assemblies
 (PDF)
k. A.
  • Konstante Reinheitsgrade
  • Eliminiert jede singifikante Verunreinigung von Wasser und Sauerstoff verursacht  durch Ausgasen in das Gasversorgungssystem
  • Schnelle Abpumpzeiten der Vakuumkammer und
    somit kürzere Prozesszyklusdauer
  • Geringere Betriebskosten
Preventing Particles on Wafers by Installing
the Pall ChamberKleen Diffuser
 (PDF)
k. A.
  • Kürzerer Spülzyklus
  • Höherer Tool- und Prozess-Durchsatz
  • Reduzierte Turbulenz des Gasstroms
  • Weniger Partikeldefekte auf dem Wafer
  • Geringere Betriebskosten

Removing Particulate Contamination in Ultra High Pure
Gas Delivery Systems by Installing Pall Gas Filters
 (PDF)

  • Direkte Rückhaltung
  • Rückhaltung durch Trägheit
  • Rückhaltung durch Diffusion
  • Abscheidung von kleinen und großen Partikeln
  • Geringere Betriebskosten
Technische und veröffentlichte Artikel

Leistungsmerkmale von Pall Ultramet-L® Filtern

     
Recommended Change-Out Schedule for
Electronic Grade Gas Filters
  • Plasmaätzen von Polysilizium
  • Reinigen im Diffusionsofen
  • Oxidationsprozess
k. A. k. A.
Reducing system Footprint and operational Costs
through Careful Component Selection
 (PDF)
  • Plasmaätzprozess
  • Höhere Flussraten bei vergleichsweise geringem Platzbedarf
  • Geringerer Platzbedarf
  • Schädliche Verunreinigung entfernen
  • Anzahl der notwendigen Kalibrierungen senken
  • Entfernung von Metallcarbonylkomplexen
  • Entfernung schädlicher Feuchtigkeitsverunreinigungen
  • Längere Lebensdauer
  • Weniger Wechsel
  • Macht zusätzliche Wärmequellen überflüssig
  • Senkung der Kapital- und Wartungskosten
  • Längere Betriebszeit
  • Höhere Ausbeute
  • Zusätzliche Kosten sowie Ausgaben für Energie und Wartung werden vermieden
Selection of 316L Stainless Steel for High Purity
Semiconductor Gas Filter Assemblies
k. A.
  • Beseitigt partikülare Kontamination
k. A.
  • Alle Gaskleen- und Ultramet-L Filter-Komplettfilter
Use of Fluropolymer and All-Stainless Steel Filters
in Ultraclean Gas Distribution Systems
k. A.
  • Beseitigt partikülare Kontamination
  • minimales Ausgasen
k. A.
Use of Nickel and 316L Stainless Steel Filter
Assemblies in High Purity Corrosive Gas Distribution Systems
k. A.
  • Verbessert die Korrosionsbeständigkeit in UHP Gassystemen
k. A.