Gasreinigung

Finer linewidths and increasingly complex processes continue to present new challenges for today’s semiconductor manufacturers. Verunreinigungen, die früher keine ernsten Probleme verursachten, können heute zu Defekten auf dem Wafer führen und damit die Prozessqualität beeinträchtigen und die Produktausbeute verringern. Seit Kurzem sind molekulare Verunreinigungen (auch gasförmige oder flüchtige Verunreinigungen genannt) immer häufiger die Ursache für Defekte. Zu molekularen Verunreinigungen zählen Feuchte, Sauerstoff, Kohlenstoffdioxid, Kohlenstoffmonoxid, Kohlenwasserstoff und Metallcarbonyle. Für das Entfernen dieser Verunreinigungen reicht die Partikelfiltration nicht aus, sondern es ist ein reaktives Material erforderlich. Das Entfernen von molekularen Verunreinigungen aus Gasströmen wird als Gasreinigung bezeichnet.

Analytische Methode zur Evaluierung von Gasreinigern mit einem neuen Reinigungsmedium für Chlorwasserstoffgas


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Gas Purification Introduction    

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Semiconductor-Gas Purification Products