Schmiermittel für die Fertigung von Datenspeichern

Während mit aktuellen Techniken der Senkrechtaufzeichnung (perpendicular magnetic recording, PMR) pro Festplatte bis zu 500 GB und mehr erreicht werden können, muss die Technologie, um 1 TB/Platte zu erzielen, noch entwickelt werden.  Diese neuen Speicherkapazitäten könnten durch Reduzierung der Lücke zwischen Kopf und Speicherschicht der Festplatte auf 10 nm oder weniger erreicht werden.

Wenn die Köpfe in einer derartigen Nähe zur Oberfläche der Festplatte betrieben werden, kann jeder unerwartete Kontakt zwischen Kopf und Medium zu einem Festplattenausfall führen, der die Zuverlässigkeit und die Funktion der Festplatte beeinträchtigt.  Dies wird als Schaden durch Haftreibung bezeichnet.

Um diese Schäden zu vermeiden, wird eine Kohlenstoffschicht und eine Schicht Schmiermittel auf die magnetische Schicht aufgetragen, um die Zuverlässigkeit der Festplatte zu erhöhen.  Diese Schichten schützen die Magnetschicht vor Korrosion und verringern zugleich die Reibungskräfte, die bei Aufsetzen und Abnehmen des Kopfes entstehen.

Üblicherweise wird zum Auftragen des Schmiermittels ein Tauchbeschichtungsverfahren (dipping-draining oder dipping-pulling) eingesetzt.  Mit beiden Methoden lässt sich eine einheitliche Beschichtung von bis zu nur 5 nm Dicke auf die Oberfläche der Festplatte auftragen. Mit einem solch dünnen Film ist die Filtration und eventuelle Reinigung der bei der Beschichtung verwendeten Lösungsmittel äußerst wichtig, um eine einheitliche Beschichtung zu erzielen.

  Überblick über DatenspeicherungDisplay – Anwendungen
Datenspeicherung – Primärbeschichtung
Datenspeicherung – Stromloses Vernickeln
Datenspeicherung – Chemisch-mechanisches Polieren (CMP)
Datenspeicherung – Substrat- / Medienreinigung
Datenspeicherung – SchmiermittelBei Fragen zur Bestellung wenden Sie sich an Ihren Pall-Vertreter.
Bei technischen Fragen wenden Sie sich an Pall Microelectronics.

Verunreinigungen in diesen Systemen zum Auftragen von Schmiermitteln lassen sich in organisch, Feinstpartikel und/oder ionisch unterteilen.

Filtrationslösungen, die Partikel mit einer Größe von mindestens 3 nm wirksam abscheiden können und zugleich über extrem wenige organische Extractables verfügen, sind für diese Anwendung von höchster Bedeutung.

Pall Corporation offers a variety of media and filtration technologies to meet both the particulate and extractable challenges of this application.

Produkte zur Schmiermittel-Filtration und -Reinigung für Datenspeicher

Filter

PE-Kleen-Filter
PE-Kleen-FilterDieser Filter ist speziell auf die Filtration von Reinstchemikalien ausgelegt und bietet die außerordentliche Partikelabscheidung, die von der Halbleiterindustrie benötigt wird.


UltiKleen™-S-Filter und UltiKleen-G2
UltiKleen™-S-Filter und UltiKleen-G2Dies ist eine moderne Vollfluorpolymer-Filterkerze, die besonders für die kritische Chemikalienfiltration empfohlen wird.


Ultipleat® P-Nylon-Filter (Chemikalienfiltration)
Ultipleat® P-Nylon Filter (Chemikalienfiltration)Der Filter wird speziell für die Bulkfiltration von Photolacken und Chemikalien, die mit Nylon 6,6 und Polyethylen hoher Dichte (HDPE) kompatibel sind, empfohlen.
 

Reiniger

IonKleen™ AQ-Purifier
IonKleen™ AQ-PurifierDieser Reiniger ist speziell für die Abscheidung von Metallionen aus Reinstwasser ausgelegt. Er eignet sich insbesondere für kritische Endreinigungsschritte bei der Halbleiterherstellung.