Lithography Application Literature for Semiconductor Manufacturing

 
Titel Wichtige

Teilprozesse
Prozessverbesserungen Wirtschaftliche Vorteile Zu folgenden Produkten
Anwendungsbericht  
Filter Selection for Optimized Photoresist Filtration (PDF)
  • 193 nm
  • 248 nm
  • i-line Photolack-Beschichtung
  • Niedrigere Betriebsdrücke
  • Verbesserte Softgel-Partikelabscheidung
  • Verringerte Mikroblasenerzeugung
  • Keine Vorbenetzung
  • Verbesserte Benetzbarkeit
  • Reduzierung von Cone-Defekten bei Bottom-Anti-Reflex-Coating (BARC)
  • Senkung der Betriebskosten
 
Veröffentlichte / Technische
Artikel
Microbridge reduction in negative tone imaging at photoresist point-of-use filtration(PDF)
  • 193i point-of-use photoresist filtration in both negative and positive tone imaging
  • Reduzierung von Mikrobrücken-Defekten
  • Erhöhte Produktausbeute
A novel filter rating method using less than 30 nm
gold nanoparticle and protective ligand
(PDF)
k. A.
  • Anziehungseffekt der Membran mit Partikeln geringerer Größe 
k. A.
Defect Reduction by using Point-of-use Filtration
in a New Coater/Developer
(PDF) 
  • 193nm Photolack auf Lithius-Pro-Coater-Tool
  • Bessere Mikrobrücken-Defektreduzierung
  • Höhere Flüssigkeitsreinheit
  • Erhöhte Produktausbeute 
Filtration condition study for enhanced microbridge reduction (PDF)
  • DUV-Photolack-Patterning
  • Endstellenfiltration von Photolack-Polymer-Lösung
  • Lithographie
  • Reduzierung von Mikrobrücken-Defekten
  • Verbesserte Abscheidung von gelartigen Mikrobrücken-Ausgangsstoffen
k. A.
Metal Ion Removal from Photoresist
Solvents - 1999 Microlithography Conference
  • Lösungsmittel
  • Vorbeschichtung
  • Photolackherstellung
  • Reduzierung der Metallionenkonzentration
  • Reduzierung der Ionen/Metallverunreinigungen auf der Oberfläche eines Wafers während der Fertigung von 0,25-Mikron-Strukturen und feineren Strukturen mittels Reinigung der Photolack-Lösungsmittel
k. A. 
Microbridge and e-test opens defectivity reduction
via improved filtration of lithography fluids
(PDF) 
  • 193nm Photolack
  • Spülung mit ozonisiertem DI-Wasser
     
  • Erhebliche Reduzierung postlithographischer Mikrobrücken-Defekte
  • Verbesserte Filtration weicher, gelartiger Verunreinigungen, welche die Ausgangsstoffe eines Mikrobrückendefekts darstellen. 
  • Reduzierung der D0-Häufigkeit von Leitungsbrüchen.   
k. A. 
New filter rating method in practice for
sub 30 nm lithography process filter 
 (PDF)
  • 193nm Lithographieverfahren (trocken) 
  • Entfernung von Mikrobrücken-Defekten 
k. A. 
Optimized Filtration for Reduced Defectivity and Improved
Dispense Recipe in 193 nm BARC Lithography - 2004 SPIE Conference
(PDF) 
  • Ätzverfahren
  • Chemisch-mechanisches Polieren und Reinigung (CMP)
     
  • Reduzierung diverser Defekte bei Bottom-Anti-Reflex-Coating-Materialien (BARC)
  • Verbesserte Dosierungsrezeptur
  • Defektreduzierung nach dem Ätzen
     
k. A.  k. A. 
Research of Appropriate Filter Membrane for Reducing Defects of ArF Lithography, Fujifilm Interface 2005 (PDF)
  • 193nm Lithographie
  • Reduzierung von Brückendefekten
k. A.  k. A. 
The effectiveness of sub 50nm filtration on reduced defectivity in advanced lithography-ARCH Interface 2004  (PDF)
  • Ätzverfahren
  • 193nm Lithographie
  • Bottom-Anti-Reflex-Coating (BARC)
  • Reduzierung von BARC-Defekten
  • Eliminierung von Polymer-Abscherung oder unbeabsichtigter Entfernung erforderlicher Bestandteile des Photolacks
  • Reduzierung von Mikrobrücken-Defekten bei 193nm Photolack und Cone-Defekten bei BARC's
k. A.  k. A.