Substrat-/Medienreinigung für Fertigung von Datenspeichern

Die Reinigung von Festplatten spielt eine wichtige Rolle bei der Reinhaltung von Substraten und Medien von Partikeln und Verunreinigungen. Dies gilt insbesondere bei der Produktion neuer PMR(Perpendicular Magnetic Recording)-, HAMR(Heat Assisted Magnetic Recording)- und BPM(Bit Patterned Media)-Medien, die sich in der Entwicklungsphase befinden.

Für die Reinigung des Substrats nach dem Polieren und die Reinigung des Mediums vor und nach dem Sputtern werden getrennte Systeme verwendet. Bei einem der typischen Reinigungssysteme kommt eines der folgenden drei Systeme zum Einsatz:  Rezirkulations- bzw. Single-Pass-System, Hochgeschwindigkeits-Jet-Spray oder ein System zur schnellen Ablassspülung (Quick Dump Rinse) bzw. zum mechanischen Schrubben. 

Diese Systeme umfassen in der Regel mehrere Reinigungsphasen unter Verwendung von raumtemperiertem oder heißem DI-Wasser sowie mit oder ohne alkalischen Reinigungsmitteln. Die Filtration ist wichtig, um diese Bäder frei von Partikeln zu halten.

Die Bedeutung der Filtration wird noch zunehmen, da sich Gleithöhen zukünftig einem Bereich von 5 nm annähern, die Rückhalteraten von unter 50 nm und sehr geringe Differenzdrücke erfordert sowie praktisch keine extrahierbaren Bestandteile zulässt.

  Überblick über DatenspeicherungDisplay – Anwendungen
Datenspeicherung – Primärbeschichtung
Datenspeicherung – Stromloses Vernickeln
Datenspeicherung – Chemisch-mechanisches Polieren (CMP)
Datenspeicherung – Substrat- / Medienreinigung
Datenspeicherung – SchmiermittelBei Fragen zur Bestellung wenden Sie sich an Ihren Pall-Vertreter.
Bei technischen Fragen wenden Sie sich an Pall Microelectronics.

Pall ist führend im Bereich moderner Filtrationstechnologien und bietet eine Reihe an Produkten mit Filterfeinheiten von 30 bis 100 nm an, die für alle Anwendungen der Substrat-/Medienreinigung geeignet sind.

Substrat-/Medienreinigung Filtration und Reinigung
Produkte in der Datenspeicher-Fertigung

Filter

Emflon®-Filter (Chemikalienfiltration)
Emflon®-Filter (Chemikalienfiltration)Dieser Filter wird für PTFE- und Polypropylen-kompatible Chemikalien empfohlen.


P Emflon® Filter (Mikrolithographie)
P Emflon® Filter (Mikrolithographie)Dieser Filter wird insbesondere für die Bulkfiltration von Photolacken und Chemikalien, die mit PTFE und Polyethylen hoher Dichte (HDPE) kompatibel sind, empfohlen.


Fluoryte™ High Flow-Filter
Fluoryte™ High Flow-FilterDieser Filter ist mit einer Voll-Fluorpolymer-Filterkerze ausgestattet, bei der die neueste Generation an hoch durchlässigen, patentierten PTFE-Membranen verwendet wurde.


Ultipleat® PC-Filter
Ultipleat® PC-FilterDieser Filter wird insbesondere für Anwendungen zur Reinigung von Komponententeilen empfohlen, bei denen hohe Flussraten sowie Partikelrückhalteraten von 0,2 μm erforderlich sind.





Reiniger

IonKleen™ AN-Reiniger
IonKleen™ AN-ReinigerDieser Reiniger wurde speziell für das Entfernen von Anionen aus organischen Lösungsmittel und in organischen Lösungsmitteln aufgelösten Sorbenzien entwickelt.


IonKleen™ SL-Reiniger
IonKleen™ SL-ReinigerDieser Reiniger ist speziell auf die Abscheidung von Metallionen aus organischen Lösungsmitteln und Mischungen aus organischen Lösungsmitteln und Sorbenzien ausgelegt.