Reinstwasser

General Filter Requirements
Achieving and maintaining ultrapure  water (UPW) is extremely important in light of its widespread presence throughout the manufacture of semiconductor integrated circuits. Die Technologie dieser Branche hat sich in den letzten Jahren so rasch weiterentwickelt, dass die Branche die Anforderungen an den Reinheit, insbesondere im Hinblick auf den Bedarf einer quantitativen Entfernung von kolloidaler Kieselsäure, Partikeln, Total Organic Carbon (TOC), Bakterien, Pyrogenen (bakterielle Fragmente) und Metallionen, neu definiert hat. 

Mit einem durchdachten UPW-System mit strategisch platzierten Filtern kann dieses Ziel erreicht werden, da der für die jeweiligen Schlüsselbereiche ausgewählte Filtertyp einen messbaren Unterschied in der endgültigen Qualität gewährleistet. Um die Anforderungen an ein System mit hochreinem DI-Wasser zu erfüllen, müssen die Filter die folgenden Merkmale aufweisen:

  • Not contribute organic, particulate or metal ion contamination to the effluent stream
  • Not unload trapped contaminants or shed filter material
  • Be integrity testable to verify removal ratings
  • Perform identically from lot to lot
  • Geringer Druckabfall und somit lange Standzeit und maximale Wirtschaftlichkeit

DI Water Filter
Ein gut gewartetes UPW-System ist mit einer Reihe sorgfältig ausgewählter und strategisch platzierter Filter und Reiniger ausgestattet. Untenstehend ist eine schematische Darstellung eines DI-Wassersystems abgebildet. Die Einbauorte der Filter sind repräsentativ für die in einem typischen Wassersystem.
Ultrapure Water Introduction 

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Semiconductor-Ultrapure Water Products